中国掩模版企业中科卓尔获数亿元融资，加速国产光刻材料突破

中国半导体材料企业中科卓尔完成数亿元B轮融资，资金用于半导体光刻用石英掩模基板的研发与量产。该公司突破超精密抛光、磁控溅射镀膜等关键技术，产品覆盖130~250nm制程，已通过多家企业验证。其技术指标达到国际领先水平，但100nm以下先进制程仍需突破。目前大陆仅少数企业能稳定供应该材料，中科卓尔正推进量产以解决国产化瓶颈。