国产电子束光刻机突破国际垄断,光刻机领域迎新里程碑
2025-08-15

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光刻机
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国产首台商业化电子束光刻机'羲之'在杭州面世,由浙江大学余杭量子研究院研发,精度达0.6纳米、线宽8纳米,突破国际出口管制限制。该设备专用于量子芯片和半导体研发,无需掩膜版且可快速修改设计,已与国内企业及科研机构展开合作接洽。


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