国产电子束光刻机突破助力量子芯片研发,光刻机概念股迎国产化新进展
2025-08-15

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全国首台国产商业电子束光刻机在杭州完成应用测试,精度比肩国际主流设备;韩国开发新型石墨薄膜性能突破;西北工业大学研发抗冻机器人可耐受-50°C环境;三星拟投资1.7亿美元建芯片封装研发中心。


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