国产首台商业电子束光刻机问世,技术突破助力半导体发展
2025-08-14

光
光刻机
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全国首台国产商业电子束光刻机突破性问世,精度达到国际水平,官媒及多家媒体广泛报道,已与HW海思等企业展开合作接洽。此进展为国内光刻机技术发展带来重大突破,此前相关突破鲜有公开报道,此次官方背书显示技术意义重大。


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