国产电子束光刻机重大突破,0.6nm精度打破国际垄断
2025-08-14

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光刻机
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我国自主研发的国产商业电子束光刻机“羲之”在杭州面世,精度达0.6nm、线宽8nm,无需掩模版可直接在硅片上‘书写’电路。该设备由浙大余杭量子研究院研发,打破国际技术垄断,已与国内企业及科研机构展开合作,主要用于量子芯片和半导体器件的研发与小批量试制,大幅提升研发效率。


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