国产电子束光刻机重大突破,相关产业链迎发展新机遇
2025-08-14

光
光刻机
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我国自主研发的首台国产商业电子束光刻机“羲之”完成研发并进入测试,精度达0.6nm线宽8nm,专攻量子芯片和半导体研发。同时,喷墨步进式纳米压印设备交付客户,技术超越国际巨头,第三代半导体在氮化镓/碳化硅集成领域取得突破。这些进展将推动光刻胶、半导体设备、特种气体等产业链发展,相关上市公司包括华特气体、中船特气、芯碁微装等。


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