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国产光刻机迎里程碑突破 0.6nm精度设备打破国际封锁

2025-08-14
光刻机
正面
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浙大余杭量子研究院自主研发的国产电子束光刻机“羲之”正式亮相,精度达0.6nm线宽8nm,打破国际技术垄断。该设备无需掩模版,可直接用电子束在硅片上刻画电路,大幅提高芯片研发效率,已进入应用测试阶段并开始与国内企业及科研机构接洽合作。
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