国产10nm光刻机交付打破垄断 助推半导体设备自主化

璞璘科技自主研发的PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备于2025年8月正式交付国内客户，这是中国首台半导体级步进式纳米压印光刻系统。该设备实现线宽小于10nm，核心指标超越日本佳能同类产品，攻克多项关键技术难题。其主要应用于存储芯片、硅基微显示器等领域，但存在制造速度慢等局限，无法替代EUV光刻制造逻辑芯片。此次交付打破日本在纳米压印领域的垄断，对国产高端存储芯片制造具有关键意义。