佳能新型光刻机工厂下月量产，瞄准AI芯片市场

佳能将于9月开始在其扩建的宇都宫工厂量产半导体光刻设备，投资500亿日元提升产能50%，主攻成熟制程i-line、氟化氪光刻机及纳米压印设备。该设备用于AI芯片中介层布线等后端工艺，台积电等主要厂商依赖其技术。佳能目标2025年销售225台，同比增长9%，但面临尼康明年进入该领域的竞争压力。