佳能新光刻机工厂9月投产，专注成熟制程与封装市场

佳能将于9月启用位于日本宇都宫市的新光刻机工厂，主攻成熟制程（I-line、KrF）及封装应用设备，总投资超500亿日元，产能提升50%。该厂将使用自家纳米压印技术，主要服务台积电等封装客户，满足AI芯片推动的先进封装需求。佳能目前在成熟制程和封装光刻机领域占据一定市场份额，与ASML形成差异化竞争，新产能将强化其市场地位。