ASML尼康齐推新品，光刻机赛道竞争升级

ASML二季度财报显示净销售额77亿欧元，交付首台High-NA EUV光刻机EXE:5200B给英特尔，该设备生产效率和精度显著提升。尼康推出面向先进封装的DSP-100光刻系统，可节省40%开发成本，预计2026年抢占20%市场份额。佳能纳米压印光刻机已用于5nm芯片生产，吞吐量逐步提升。中国通过政策资金支持光刻机研发，但高端领域仍依赖进口。