中科院EUV光刻核心技术获突破,新型评估模型助力光刻机性能提升
2025-07-17

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中国科学院微电子研究所团队在EUV光刻收集镜红外辐射抑制技术上取得突破,提出新的理论模型提升评估精度,相关成果发表于国际期刊。同时,年度第三代半导体产业论坛定于11月在厦门召开,涵盖技术展示与合作交流。


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