突破传统!5nm芯片无需EUV光刻机,光刻机行业或迎变局
2025-05-30
近期有报道称,通过采用特殊技术路线,无需EUV光刻机也能制造5nm芯片。该技术利用步进扫描光刻机通过多重曝光实现5nm线宽,并搭配原子级精度的刻蚀设备和新型电子束量测系统。这种突破传统依赖EUV光刻机的方法,可能带动半导体全产业链技术革新,未来或能拓展至3nm芯片制造。


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