中国EUV光源突破！光刻机国产化迎关键里程碑，ASML仍称需多年追赶

中国科学院上海光机所林楠团队在EUV光刻机核心光源技术上取得突破，使用固体激光器实现3.42%能量转换效率，达到国际领先水平，为国产EUV光刻技术奠定基础。ASML CFO承认中国技术进展但认为仍需多年才能量产先进EUV设备。该技术突破可能加速中国芯片自主化进程，但目前仍处于实验阶段，尚未商业化。中美贸易摩擦背景下，中国强调反对科技封锁，ASML中国市场销售额占比达36.1%。