钠离子电池技术突破！福州大学团队用ALD技术解决核心性能瓶颈，商业化前景再添动力

福州大学郑云教授/张久俊院士团队在《Advanced Energy Materials》发表研究，系统阐述原子层沉积（ALD）技术在钠离子电池（SIBs）中的应用。该技术通过纳米级精度涂层，可解决钠离子电池因Na⁺离子半径大、质量高导致的嵌入动力学缓慢、能量密度低、循环寿命短等瓶颈问题。具体而言，ALD涂层能在负极形成稳定SEI膜、抑制钠枝晶生长和体积膨胀，在正极提升机械/化学/电化学稳定性并促进Na传导，同时在固态电解质领域有应用潜力。研究还梳理了ALD技术在钠电领域的发展历程，分析当前技术挑战与商业化前景，为钠离子电池技术发展注入创新动能。