中微公司刻蚀设备突破！国产半导体技术跃进，第三代板块迎利好

中微公司成功付运全球首台Primo Menova 12寸金属刻蚀设备给国内重要客户，标志其在等离子体刻蚀领域的技术创新；公司2024年研发投入达24.5亿元，同比大增94.3%，占营收27%；11月厦门将举办国际第三代半导体论坛IFWS & SSLCHINA 2025，推动产业交流与技术评选。