华中科大四光子光刻技术突破 提升光刻胶应用潜力
2025-08-03

光
光刻胶
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华中科大甘棕松团队研发出级联上转换四光子光刻技术,突破传统光刻胶分辨率瓶颈。通过创新稀土纳米颗粒掺杂和能量传递方式,实现近红外四光子光刻分辨率媲美绿光双光子水平,光刻胶颗粒最小达11纳米。该技术已应用于芯片制造环节并产生产业价值,未来可能提升光学数据存储、生物3D打印等领域光刻胶需求。


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