清华大学突破EUV光刻胶关键技术,新材料解决行业卡脖子难题
2025-07-28

光
光刻胶
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清华大学化学系许华平团队开发出基于聚碲氧烷的新型EUV光刻胶,解决了现有材料灵敏度低、缺陷多等问题。该材料通过引入碲元素提升EUV吸收能力,单组分小分子结构确保均一性,为先进半导体工艺提供新解决方案。


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