清华团队EUV光刻胶技术突破 助推国产替代与市场增长

清华大学化学系许华平教授团队在EUV光刻材料领域取得重要进展，开发出基于聚碲氧烷的新型光刻胶，为下一代EUV光刻胶提供可行路径。该材料由单组分小分子聚合而成，整合了理想特性。光刻胶市场受半导体升级、国产替代及政策支持推动，预计2030年全球市场规模将达280.6亿美元，中国占比提升至30%。中国通过税收优惠及研发补贴超200亿元，推动ArF光刻胶量产。