重庆8英寸MEMS芯片'超级工厂'即将投产 光刻工艺细节首曝光
2025-07-09

光
光刻胶
负面
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重庆首个8英寸MEMS特色芯片IDM产业基地项目进入设备搬入倒计时,预计8月试产。该项目覆盖芯片设计、制造到封装测试全产业链,重点提及光刻工艺中黄光区对光刻胶保护的关键作用。建成投产后年产数亿颗高端传感器,产品性能达国际先进水平,将强化重庆在MEMS传感器领域的供应链安全,推动当地集成电路产业生态完善。


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