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突破!无需EUV光刻机造5nm芯片,光刻胶行业面临新挑战?

2025-05-30
近期有报道称,通过采用特殊技术路线,无需EUV光刻机即可制造5nm芯片。该技术使用步进扫描光刻机通过多重曝光实现5nm线宽,并结合原子级精度刻蚀设备和新型电子束量测系统。此方法可能带动半导体全产业链发展,并可能延伸至3nm芯片制造。
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