光掩模技术瓶颈引热议 国产光刻胶突围战进入关键期

第二届光掩模与光刻胶产业论坛将于5月28日在上海召开，聚焦中国光掩模与光刻胶产业的技术挑战与市场机遇。论坛指出，EUV光刻面临成本高昂、掩模寿命短、薄膜耐用性不足等关键问题，同时非EUV技术也在寻求突破。国内企业在光刻胶领域取得进展，如ArF光刻胶研发突破，但高端市场仍被Photronics、Toppan等外资主导，国产替代空间广阔。2025年中国第三方掩模版市场规模预计达70%，光刻胶市场国产化率不足30%，显示行业存在长期发展潜力。